日本hiroshimamm纳米分散用低冲击湿法微珠磨机ADV

的低冲击湿法微珠磨机，用于纳米分散

总览

　在我们的产品线中，损伤分散小的珠磨机。针对“低损伤纳米颗粒分散体”进行了优化的湿微珠磨机，是使用φ15μm至φ50μm磁珠进行低冲击搅拌的设备，这是一种的宽分离器三角磨机。
　带有新设计的平面搅拌器/珠分离转子（专利技术）的湿珠磨机可实现低离心力处理。通过减小从珠粒到纳米颗粒的冲击力，同时保持珠粒的足够的搅拌速度，在维持每单位珠粒量的加工速度的同时，对纳米颗粒的损害小化。
　另外，为了满足新的纳米分散需求，转子设计使研磨机中珠粒的搅拌能量均匀，从而可以进行均匀的分散处理。

特征

1.可以分散别低损伤纳米颗粒的珠磨机！珠磨机，即使使用软颗粒或纳米颗粒的浆液，也可以进行低冲击处理，并且可以进行纳米分散处理且损伤小。它可以用于分散软纳米颗粒，例如100 nm级钛酸钡和有机颜料，而传统的珠磨机无法对其进行适当处理。2.通过分散处理纳米颗粒浆料抑制粘度和凝胶化的增加！这是一种珠磨机，可以将由于颗粒破坏而产生的细小碎片抑制到小，即使使用纳米颗粒也可以抑制浆料的粘度和凝胶化。在确保浆料的流动性和改善长期保存期间的产品浆料的稳定性方面是有效的。3.纳米粒子的粒度分布可以变得更锐利！由于在珠磨机中的搅拌功率高度均匀，因此在浆料中的分散度均匀，并且可以抑制颗粒碎屑，因此即使使用几十nm的纳米颗粒，也可以获得清晰的粒径分布。可以提高产品性能，并且可以在批量生产条件下复制产品设计时预期的产品性能。

运行条件

可用磁珠直径Φ15μm?Φ0.3毫米珠粒分离器圆周速度6m /秒至18m / s

应用实例和终产品实例

高粘度支撑

光学材料（氧化锆和二氧化硅在树脂原料中的纳米分散体），导电涂料，化妆品（氧化钛和氧化锌在油中的分散体）等。

支持低损伤扩散

电子材料（钛酸钡，中空二氧化硅），电极材料（纳米银，镍等），热射线阻挡材料（ITO等），光催化剂（氧化钛），
液晶颜料等。

介绍Apex Mill系列的产品阵容

产品名称大纲可用磁珠直径